重點(diǎn)發(fā)展硅片、碳化硅等半導(dǎo)體襯底材料和超凈高純電子特氣

致力于發(fā)展我國電子化學(xué)品“卡脖子”技術(shù)以及進(jìn)口替代產(chǎn)品，支持引育一批掌握新工藝、新技術(shù)的團(tuán)隊(duì)或中小型科技企業(yè)，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)鏈條向高附加值領(lǐng)域攀升。

（一）半導(dǎo)體集成電路及分立器件用電子化學(xué)品

1.基材

重點(diǎn)發(fā)展8英寸、12英寸硅片，碳化硅、氮化鎵、磷化銦等新一代化合物半導(dǎo)體襯底材料及外延片；前瞻布局氧化鎵、銻化鎵、銻化銦等第四代半導(dǎo)體材料。

2.制程化學(xué)品及材料

拋光材料。依托現(xiàn)有化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）漿料及拋光墊重點(diǎn)企業(yè)，重點(diǎn)發(fā)展氧化鋁、氧化鈰、氧化硅、氧化鎢、氮化硅、氮化鋁等高純研磨顆粒，硝酸鈰、硝酸鋁、硝酸鎳等高純拋光劑，以及軟質(zhì)（聚氨酯墊、細(xì)毛氈墊、絨毛布?jí)|）和硬質(zhì)（纖維織物墊、聚乙烯墊）拋光墊等。

光掩膜版。重點(diǎn)發(fā)展勻膠鉻版光掩模版，KrF、ArF移項(xiàng)光掩模版，前瞻布局深紫外光（DUV）掩膜版。

超凈高純電子特氣。重點(diǎn)發(fā)展氮、氧、氬、氫、氦等背景氣；四甲基環(huán)四硅氧烷（TMCTS）、正硅酸乙酯、乙硅烷、丙硅烷、二乙基硅烷（DES）等硅烷氣；硼烷、鍺烷、磷烷、硒烷、甲烷、乙烷、丙烷、丙烯、CO、CO2等超凈高純電子特氣。